Su bazlı kaplama ve su bazlı mürekkep üretiminde, dispersiyon, öğütme, karıştırma ve uygulama işlemlerinin tümü değişen derecelerde hava verir. Bu hava kabarcıkları zamanında serbest bırakılamazsa filme girebilir ve kraterlere, düzgün olmayan yüzeylere ve diğer film kusurlarına neden olabilir. Yüksek hızlı dispersiyon ve sürekli üretimde, sistemin köpük üretme hızı genellikle oldukça hızlıdır; tek başına ayakta durmaya güvenmenin çözülmesi zordur. Bu nedenle, su bazlı bir sistemdeki köpük gidericinin yalnızca halihazırda oluşmuş köpükle başa çıkması değil, aynı zamanda belirli bir sürekli köpük bastırma kapasitesine sahip olması da gerekir.
Yaygın Sorunlar
Yüksek hızlı dispersiyon, öğütme ve sirkülasyon, sisteme sürekli olarak hava vererek köpüğün sürekli oluşmasına neden olur ve üretim verimliliğini etkiler.
Sistemde sürekli köpük üreten faktörler mevcutken katkı maddesi öncelikli olarak anlık köpük üzerinde etkili oluyorsa, durdurma veya karıştırma sonrasında büyük miktarlarda köpük yeniden ortaya çıkabilir.
Köpük giderme özelliği ne kadar güçlü olursa o kadar iyi değildir. Katkı maddesi kaplamada eşit şekilde dağılmazsa, krater oluşumuna, balık gözüne ve diğer yüzey sorunlarına neden olabilir ve bunun yerine filmin görünümünü etkileyebilir.
Su bazlı kaplama üretimi genellikle yüksek hızlı dispersiyon gerektirir. Köpük kesicinin kayma direnci yetersizse köpük bastırma performansı, uzun süreli mekanik etki sonrasında fark edilebilir bir değişiklik gösterebilir.
Su Bazlı Sistemlerde Köpük Giderme Neden Göründüğünden Daha Zordur?
Köpük esasen hava bir sıvıya girdiğinde oluşan bir gaz-sıvı arayüzüdür. Su bazlı sistemlerde yüzey aktif maddeler, reçineler, pigmentler ve dolgu maddelerinin tümü kabarcık oluşumunu ve stabiliteyi etkiler. Bir köpük gidericinin köpük arayüzüne girmesi ve daha sonra arayüz stabilitesini azaltarak kabarcık patlamasına neden olması gerekir. Ancak köpük kesici ile sistem arasındaki uyum zayıfsa başka bir durum ortaya çıkabilir: köpük azalır, ancak film yüzeyinde yeni kusurlar ortaya çıkar.
Bu nedenle, su bazlı köpük gidericilerin "köpük giderme kapasitesi" ile "sistem uyumluluğu" arasında uygun bir denge bulması gerekir. Sürekli üretimdeki su bazlı kaplamalar ve mürekkepler için halihazırda oluşmuş köpüğün çözülmesi yeterli değildir; aynı zamanda sonraki işlemler sırasında sürekli köpüklenme eğiliminin azaltılması da gereklidir. Sürekli köpük bastırma kapasitesinin önemli önemi budur.
DH-2271S: Su Bazlı Sistemler için Polieter Modifiye Silikon Köpük Kesici
DH-2271S, öncelikle su bazlı kaplama ve su bazlı mürekkep sistemlerinin köpük giderme ve köpük bastırma ihtiyaçlarını karşılayan, polieterle modifiye edilmiş bir silikon köpük kesicidir. Ürün, su bazlı sistemlere nispeten kolaylıkla dağılabilmekte ve üretim ve uygulama sırasında oluşan köpükle mücadele ederken aynı zamanda belirli bir düzeyde sürekli köpük bastırma özelliği de sağlamaktadır. Yüksek hızlı dağılım gerektiren formülasyonlar için kayma direnci aynı zamanda daha istikrarlı performansın korunmasına da yardımcı olur.
Sistem uyarlanabilirliği açısından DH-2271S, iyi bir sıcaklık ve asit/alkali direncine sahiptir ve su bazlı mürekkepler, şeffaf vernikler ve renkli kaplamalar dahil olmak üzere farklı sistemlere uygulanabilir. Kullanmadan önce nispeten düşük kesme kuvvetiyle karıştırmanız önerilir; formülasyon prosesine göre doğrudan da eklenebilir. Ürün öğütme veya inceltme aşamasında kullanılabilir. Referans dozajı: toplam formülasyonun %0,05 ila %0,5'i. Gerçek miktar köpüklenme derecesine, reçine sistemine ve uygulama sürecine göre ayarlanmalıdır.
Su bazlı sistemlerdeki köpük sorunları genellikle üretim, depolama ve uygulama sürecinin tamamını kapsar. Bu nedenle, bir köpük giderici seçerken yalnızca anlık köpük giderici hızına bakmak yeterli değildir; sürekli köpük bastırma, kayma direnci ve formülasyonla uyumluluk da dikkate alınmalıdır. Su bazlı kaplamalar ve mürekkepler için, uygun bir köpük giderici, film tesviyesi ve yüzey görünümü üzerindeki etkiyi en aza indirirken köpüğü ortadan kaldırmalı, böylece köpük giderme performansı ile film performansı arasında bir denge sağlamalıdır.